24 Grit Weißkorund WFA WA Schleifkörner Weißes Aluminiumoxid zum Sandstrahlen

24 Grit Weißkorund WFA WA Schleifkörner Weißes Aluminiumoxid zum Sandstrahlen

$800.00 /MT

24 Grit Weißkorund WFA WA Schleifkörner Weißes Aluminiumoxid zum Sandstrahlen

Weißer Korund wird aus hochwertigem Aluminiumoxid durch Schmelzen bei über 2000 °C im Lichtbogenofen und anschließendes Abkühlen hergestellt. Er ist weiß und weist die Hauptkristallphase α-Al2O3 auf . Das im Lichtbogenofen hergestellte weiße Aluminiumoxid hat den Vorteil einer hohen Schüttdichte und geringen Porosität. Zudem können die Volumenstabilität und die Temperaturwechselbeständigkeit verbessert werden.

PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN

Spezifisches Gewicht 3,96 g/ cm3
Mohshärte   9,0
Kristallform α-Al 2 O 3
Schmelzpunkt 2250℃

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

  Al 2 O 3 Fe 2 O 3 FeO MgO Hoch TiO 2 Na 2 O K 2 O  GESETZ
   99,5 0,04 / 0,01 0,01  /   0,25 0,01 < 0,09

PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG

F8 +4000 µm 0 +2800 µm ≤20 % +2360 µm ≥45 % +2360+2000µm ≥70 % -1700um ≤3 %
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20 % +2000 µm ≥45 % +2000+1700um ≥70 % -1400um ≤3 %
F12 +2800 µm 0 +2000 µm ≤20 % +1700 µm ≥45 % +1700+1400um ≥70 % -1180um ≤3 %
F14 +2360 µm 0 +1700 µm ≤20 % +1400um ≥45 % +1400+1180um ≥70 % -1000 um ≤3 %
F16 +2000 µm 0 +1400um ≤20 % +1180 µm ≥45 % +1180+1000µm ≥70 % -850 um ≤3 %
F20 +1700 µm 0 +1180 µm ≤20 % +1000 µm ≥45 % +1000+850um ≥70 % -710 µm ≤3 %
F22 +1400um 0 +1000 µm ≤20 % +850 µm ≥45 % +850+710um ≥70 % -600 um ≤3 %
F24 +1180 µm 0 +850 µm ≤25 % +710 µm ≥45 % +710+600um ≥65 % -500 um ≤3 %
F30 +1000 µm 0 +710 µm ≤25 % +600 µm ≥45 % +600+500um ≥65 % -425 um ≤3 %
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25 % +500 µm ≥45 % +500+425um ≥65 % -355 um ≤3 %
F46 +600 µm 0 +425 µm ≤30 % +355 µm ≥40 % 355+300um ≥65 % -250 um ≤3 %
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30 % +300 µm ≥40 % +300+250um ≥65 % -212um ≤3 %
F60 +425 µm 0 +300 µm ≤30 % +250 µm ≥40 % 250+212 µm ≥65 % -180 um ≤3 %
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25 % +212 µm ≥40 % +212+180um ≥65 % -150 um ≤3 %
  F80 +300 µm 0 +212 µm ≤25 % +180 µm ≥40 % +180+150um ≥65 % -125 um ≤3 %
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20 % +150 µm ≥40 % +150+125um ≥65 % -106 um ≤3 %
F100 +212 µm 0 +150 µm ≤20 % +125 µm ≥40 % +125+106 µm ≥65 % -75 um ≤3 %
F120 +180 µm 0 +125 µm ≤20 % ≥40 % ≥40 % +106+90 µm ≥65 % -63um ≤3 %
F150 +150 µm 0 +106 µm ≤15 % +75 µm ≥40 % +75+63um ≥65 % -45 um ≤3 %
F180 +125 µm 0 +90 µm ≤15 % +75 µm * +75+63um ≥40 % -53um *
F220 +106 µm 0 +75 µm ≤15 % +63 µm * +63+53um ≥40 % -45 um *

Hauptsächliche Anwendungen

-Gebundene Schleifmittel und Schleifmittel auf Unterlage

-Erzeugen einer matten Oberfläche auf Glas

– Nass- und Trockenstrahlmittel, Schleifen und Polieren usw.

-Boden-/Wandlaminate, verschleißfest

-Thermisches Spritzen/Plasmaspritzen, Verarbeitung sehr harter Komponenten

-Katalysatorträger

-Keramik und Fliesen, Keramikfilterplatte, Keramikmembran usw.

-Schleifscheiben, Topfscheiben, Schleifsteine, Polierpads usw.

-Strahlreinigung, Oberflächenbearbeitung, Entgraten, Aufrauen metallischer Oberflächen

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