Rutschfester weißer Korund für Harz und Farbe

Rutschfester weißer Korund für Harz und Farbe

$850.00 /MT

Rutschfester weißer Korund für Harz und Farbe

Weißer Korund wird aus hochwertigem Aluminiumoxid durch Schmelzen bei über 2000 °C im Lichtbogenofen und anschließendes Abkühlen hergestellt. Er ist weiß und weist die Hauptkristallphase α-Al₂O₃ auf . Das im Kipplichtbogenofen hergestellte weiße Aluminiumoxid zeichnet sich durch eine hohe Schüttdichte und geringe Porosität aus. Darüber hinaus können die Volumenstabilität und die Temperaturwechselbeständigkeit verbessert werden.

PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN

Spezifisches Gewicht 3,96 g/ cm3
Mohshärte         9,0
Kristallform            α-Al 2 O 3
Schmelzpunkt            2250℃

1. Wird für Feuerfest-, Guss-, Gießerei- und Malerarbeiten usw. verwendet

Typische chemische Analyse [%]

Größe Al2O3 Fe2O3 MgO Hoch Na 2 O K 2 O
0-1 mm 1-3 mm 3-5 mm 5-8 mm ≥99,5 ≤0,06 ≤0,02 ≤0,02 ≤0,30 ≤0,02
200F 325F ≥98,5 ≤0,20 ≤0,05 ≤0,05 ≤0,40 ≤0,05

2. Wird für Schleifmittel, Strahlen, Schleifen, Keramik, Rostentfernung, Oberflächenbehandlung, Bodenbeschichtung, abriebfeste Schicht usw. verwendet

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

Al2O3   Fe2O3 FeO MgO Hoch TiO 2 Na 2 O K 2 O  GESETZ
   99,5 0,04 / 0,01 0,01  /   0,25 0,01 < 0,09

PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG

F8 +4000 µm 0 +2800 µm ≤20 % +2360 µm ≥45 % +2360+2000 µm ≥70 % -1700um ≤3 %
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20 % +2000 µm ≥45 % +2000+1700um ≥70 % -1400um ≤3 %
F12 +2800 µm 0 +2000 µm ≤20 % +1700 µm ≥45 % +1700+1400um ≥70 % -1180um ≤3 %
F14 +2360 µm 0 +1700 µm ≤20 % +1400um ≥45 % +1400+1180 um ≥70 % -1000 um ≤3 %
F16 +2000 µm 0 +1400um ≤20 % +1180 µm ≥45 % +1180+1000µm ≥70 % -850 um ≤3 %
F20 +1700 µm 0 +1180 µm ≤20 % +1000 µm ≥45 % +1000+850 µm ≥70 % -710 um ≤3 %
F22 +1400um 0 +1000 µm ≤20 % +850 µm ≥45 % +850+710 µm ≥70 % -600 um ≤3 %
F24 +1180 µm 0 +850 µm ≤25 % +710 µm ≥45 % +710+600µm ≥65 % -500 um ≤3 %
F30 +1000 µm 0 +710 µm ≤25 % +600 µm ≥45 % +600+500 µm ≥65 % -425 um ≤3 %
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25 % +500 µm ≥45 % +500+425 um ≥65 % -355 um ≤3 %
F46 +600 µm 0 +425 µm ≤30 % +355 µm ≥40 % 355+300 um ≥65 % -250 um ≤3 %
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30 % +300 µm ≥40 % +300+250 µm ≥65 % -212um ≤3 %
F60 +425 µm 0 +300 µm ≤30 % +250 µm ≥40 % 250+212 um ≥65 % -180 um ≤3 %
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25 % +212 µm ≥40 % +212+180 µm ≥65 % -150 um ≤3 %
  F80 +300 µm 0 +212 µm ≤25 % +180 µm ≥40 % +180+150 µm ≥65 % -125 um ≤3 %
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20 % +150 µm ≥40 % +150+125 µm ≥65 % -106 um ≤3 %
F100 +212 µm 0 +150 µm ≤20 % +125 µm ≥40 % +125+106 µm ≥65 % -75 um ≤3 %
F120 +180 µm 0 +125 µm ≤20 % ≥40 % ≥40 % +106+90 µm ≥65 % -63um ≤3 %
F150 +150 µm 0 +106 µm ≤15 % +75 µm ≥40 % +75+63um ≥65 % -45 um ≤3 %
F180 +125 µm 0 +90µm ≤15 % +75 µm * +75+63um ≥40 % -53um *
F220 +106 µm 0 +75 µm ≤15 % +63 µm * +63+53um ≥40 % -45 um *

3. Wird zum Schleifen, Polieren, Läppen, Schleifstein, Polierpads, Keramikmembranen usw. verwendet

Typische chemische Analyse [%]

Al2O3 Fe2O3 SiO 2 FeO MgO Hoch TiO 2 Na 2 O K 2 O GESETZ
99,2-99,6 0,03-0,10 ≤0,02 / ≤0,01 ≤0,01 / 0,20-0,30 ≤0,02 < 0,09

PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG

KAPITEL Ⅰ (JIS-STANDARD)

Größe D O (eins) D 3 (um) D 50 (eins) D94(um)
#240 ≤127 ≤103 57,0 ± 3,0 ≥40
#280 ≤112 ≤87 48,0 ± 3,0 ≥33
#320 ≤98 ≤74 40,0 ± 2,5 ≥27
#360 ≤86 ≤66 35,0 ± 2,0 ≥23
#400 ≤75 ≤58 30,0 ± 2,0 ≥20
#500 ≤63 ≤50 25,0 ± 2,0 ≥16
#600 ≤53 ≤41 20,0 ± 1,5 ≥13
#700 ≤45 ≤37 17,0 ± 1,5 ≥11
#800 ≤38 ≤31 14,0 ± 1,0 ≥9,0
#1000 ≤32 ≤27 11,5 ± 1,0 ≥7,0
#1200 ≤27 ≤23 9,5 ± 0,8 ≥5,5
#1500 ≤23 ≤20 8,0 ± 0,6 ≥4,5
#2000 ≤19 ≤17 6,7 ± 0,6 ≥4,0
#2500 ≤16 ≤14 5,5 ± 0,5 ≥3,0
#3000 ≤13 ≤11 4,0 ± 0,5 ≥2,0
#4000 ≤11 ≤8,0 3,0 ± 0,4 ≥1,8
#6000 ≤8,0 ≤5,0 2,0 ± 0,4 ≥0,8
#8000 ≤6,0 ≤3,5 1,2 ± 0,3 ≥0,6

KAPITEL II (FEPA-STANDARD)

Größe D 3 (um) D 50 (eins)  D94(um)
F230 <82 53,0 ± 3,0 >34
F240 <70 44,5 ± 2,0 >28
F280 <59 36,5 ± 1,5 >22
F320 <49 29,2 ± 1,5 >16,5
F360 <40 22,8 ± 1,5 >12
F400 <32 17,3 ± 1,0 >8
F500 <25 12,8 ± 1,0 >5
F600 <19 9,3 ± 1,0 >3
F800 <14 6,5 ± 1,0 >2
F1000 <10 4,5 ± 0,8 >1
F1200 <7 3,0 ± 0,5 >1 (bei 80 %)
F1500 <5 2,0 ± 0,4 >0,8 (bei 80 %)
F2000 <3,5 1,2 ± 0,3 >0,5 (bei 80 %)

Hauptsächliche Anwendungen

-Gebundene Schleifmittel und beschichtete Schleifmittel

-Erzeugen einer matten Oberfläche auf Glas

– Nass- und Trockenstrahlmittel, Schleifen und Polieren usw.

-Boden-/Wandlaminate, verschleißfest

-Thermisches Spritzen/Plasmaspritzen, Verarbeitung sehr harter Komponenten

-Katalysatorträger

-Keramik und Fliesen, Keramikfilterplatte, Keramikmembran usw.

-Schleifscheiben, Topfscheiben, Schleifsteine, Polierpads usw.

-Strahlreinigung, Oberflächenbearbeitung, Entgraten, Aufrauen metallischer Oberflächen

pdf

TDS nicht hochgeladen

pdf

Sicherheitsdatenblatt nicht hochgeladen

Scroll to Top