Hersteller von weißem Schmelztonerde

Zhengzhou Haixu Abrasives Co.,Ltd. ist ein Hersteller und Lieferant von weißem Schmelzaluminiumoxid aus China .

$800.00 /MT

Hersteller von weißem Schmelztonerde

Zhengzhou Haixu Abrasives Co.,Ltd. ist ein Hersteller und Lieferant von weißem Schmelzaluminiumoxid in China.

Weißes Schmelzaluminiumoxid wird aus hochwertigem Aluminiumoxid durch Schmelzen bei über 2000 °C im Elektrolichtbogenofen und anschließendes Abkühlen hergestellt. Es ist weiß und besteht hauptsächlich aus der Kristallphase α-Al₂O₃ . Das im Kipplichtbogenofen erzeugte weiße Aluminiumoxid zeichnet sich durch hohe Schüttdichte und geringe Porosität aus; zudem lassen sich Volumenstabilität und Temperaturwechselbeständigkeit verbessern.

PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN

Spezifisches Gewicht 3,96 g/cm³
Mohs-Härte         9.0
Kristallform            α-Al2O3
Schmelzpunkt            2250℃

  1. Wird für feuerfeste Materialien, Guss, Gießereien und Lackierarbeiten usw. verwendet.

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

Größe Al2O3 Fe2O3 MgO Hoch Na2O K2O
0–1 mm 1–3 mm 3–5 mm 5–8 mm ≥99,5 ≤0,06 ≤0,02 ≤0,02 ≤0,30 ≤0,02
200 °F 325 °F ≥98,5 ≤0,20 ≤0,05 ≤0,05 ≤0,40 ≤0,05

 

2. Verwendung: Schleifmittel, Strahlen, Schleifen, Keramik, Rostentfernung, Oberflächenbehandlung, Bodenbeschichtung, abriebfeste Schichten usw.

weißes Schmelzkorund

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

  Al2O3 Fe2O3 FeO MgO Hoch TiO2 Na2O K2O  GESETZ
   99,5 0,04 / 0,01 0,01  /   0,25 0,01 < 0,09

PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG

F8 +4000 µm 0 +2800µm ≤20% +2360 µm ≥45% +2360+2000um ≥70% -1700µm ≤3%
F10 +3350 µm 0 +2360 µm ≤20% +2000 µm ≥45% +2000+1700µm ≥70% -1400um ≤3%
F12 +2800µm 0 +2000 µm ≤20% +1700µm ≥45% +1700+1400um ≥70% -1180µm ≤3%
F14 +2360 µm 0 +1700µm ≤20% +1400um ≥45% +1400+1180µm ≥70% -1000µm ≤3%
F16 +2000 µm 0 +1400um ≤20% +1180µm ≥45% +1180+1000µm ≥70% -850 µm ≤3%
F20 +1700µm 0 +1180µm ≤20% +1000 µm ≥45% +1000+850µm ≥70% -710µm ≤3%
F22 +1400um 0 +1000 µm ≤20% +850 µm ≥45% +850+710µm ≥70% -600 µm ≤3%
F24 +1180µm 0 +850 µm ≤25% +710µm ≥45% +710+600µm ≥65% -500µm ≤3%
F30 +1000 µm 0 +710µm ≤25% +600 µm ≥45% +600+500µm ≥65% -425µm ≤3%
F36 +850 µm 0 +600 µm ≤25% +500 µm ≥45% +500+425µm ≥65% -355µm ≤3%
F46 +600 µm 0 +425µm ≤30% +355 µm ≥40% 355+300µm ≥65% -250 µm ≤3%
F54 +500 µm 0 +355 µm ≤30% +300 µm ≥40% +300+250µm ≥65% -212µm ≤3%
F60 +425µm 0 +300 µm ≤30% +250 µm ≥40% 250+212µm ≥65% -180 µm ≤3%
F70 +355 µm 0 +250 µm ≤25% +212 µm ≥40% +212+180µm ≥65% -150 µm ≤3%
F80 +300 µm 0 +212 µm ≤25% +180 µm ≥40% +180+150µm ≥65% -125µm ≤3%
F90 +250 µm 0 +180 µm ≤20% +150 µm ≥40% +150+125µm ≥65% -106µm ≤3%
F100 +212 µm 0 +150 µm ≤20% +125µm ≥40% +125+106µm ≥65% -75µm ≤3%
F120 +180 µm 0 +125µm ≤20% ≥40% ≥40% +106+90µm ≥65% -63µm ≤3%
F150 +150 µm 0 +106µm ≤15% +75 µm ≥40% +75+63um ≥65% -45µm ≤3%
F180 +125µm 0 +90µm ≤15% +75 µm * +75+63um ≥40% -53µm *
F220 +106µm 0 +75 µm ≤15% +63 µm * +63+53um ≥40% -45µm *

3. Verwendung: Schleifen, Polieren, Läppen, Schleifstein, Polierpads, Keramikmembranen usw.

TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]

Al2O3 Fe2O3 SiO 2 FeO MgO Hoch TiO 2 Na₂O K₂O GESETZ
99,2-99,6 0,03–0,10 ≤0,02 / ≤0,01 ≤0,01 / 0,20-0,30 ≤0,02 < 0,09

PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG

KAPITEL I (JIS-STANDARD)

Größe DO(um) D3(um) D50 (eins) D94(um)
#240 ≤127 ≤103 57,0±3,0 ≥40
#280 ≤112 ≤87 48,0±3,0 ≥33
#320 ≤98 ≤74 40,0±2,5 ≥27
#360 ≤86 ≤66 35,0 ± 2,0 ≥23
#400 ≤75 ≤58 30,0 ± 2,0 ≥20
#500 ≤63 ≤50 25,0 ± 2,0 ≥16
#600 ≤53 ≤41 20,0±1,5 ≥13
#700 ≤45 ≤37 17,0±1,5 ≥11
#800 ≤38 ≤31 14,0±1,0 ≥9,0
#1000 ≤32 ≤27 11,5±1,0 ≥7,0
#1200 ≤27 ≤23 9,5±0,8 ≥5,5
#1500 ≤23 ≤20 8,0±0,6 ≥4,5
#2000 ≤19 ≤17 6,7±0,6 ≥4,0
#2500 ≤16 ≤14 5,5 ± 0,5 ≥3,0
#3000 ≤13 ≤11 4,0±0,5 ≥2,0
#4000 ≤11 ≤8,0 3,0 ± 0,4 ≥1,8
#6000 ≤8,0 ≤5,0 2,0 ± 0,4 ≥0,8
#8000 ≤6,0 ≤3,5 1,2 ± 0,3 ≥0,6

KAPITEL II (FEPA-STANDARD)

Größe D3(um) D50 (eins)  D94(um)
F230 <82 53,0 ± 3,0 >34
F240 <70 44,5 ± 2,0 >28
F280 <59 36,5 ± 1,5 >22
F320 <49 29,2 ± 1,5 >16,5
F360 <40 22,8±1,5 >12
F400 <32 17,3±1,0 >8
F500 <25 12,8 ± 1,0 >5
F600 <19 9,3±1,0 >3
F800 <14 6,5 ± 1,0 >2
F1000 <10 4,5±0,8 >1
F1200 <7 3,0 ± 0,5 >1 (bei 80 %)
F1500 <5 2,0 ± 0,4 >0,8 (bei 80 %)
F2000 <3,5 1,2 ± 0,3 >0,5 (bei 80 %)

Hauptanwendungen

-Gebundene und beschichtete Schleifmittel

-Erzeugung einer matten Oberfläche auf Glas

-Nass- und Trockenstrahlen, Schleifen und Polieren usw.

-Boden-/Wandlaminate, verschleißfest

-Thermisches Spritzen/Plasmaspritzen, Bearbeitung sehr harter Bauteile

-Katalysatorträger

Keramik und Fliesen, Keramikfilterplatten, Keramikmembranen usw.

Schleifscheiben, Topfscheiben, Wetzsteine, Polierpads usw.

-Strahlreinigung, Oberflächenbearbeitung, Entgraten, Aufrauen metallischer Oberflächen

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