Polierpulver Weißer Schmelzkorund 14μm WA-#800
Weißes Schmelzkorund wird aus hochwertigem Aluminiumoxid durch Schmelzen bei über 2000 °C im Lichtbogenofen und anschließendes Abkühlen hergestellt. Es ist weiß und weist die Hauptkristallphase α – Al2O3 auf .
Die im Kipp-Lichtbogenofen hergestellte weiße Tonerde hat den Vorteil einer hohen Schüttdichte und geringen Porosität und die Volumenstabilität und Wärmeschockbeständigkeit können verbessert werden.
PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN
Spezifisches Gewicht | 3,96 g/ cm3 |
Mohshärte | 9,0 |
Kristallform | α-Al 2 O 3 |
Schmelzpunkt | 2250℃ |
TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]
Al2O3 | Fe2O3 | SiO 2 | FeO | MgO | Hoch | TiO 2 | Na 2 O | K 2 O | GESETZ |
99,2-99,6 | 0,03-0,10 | ≤0,02 | / | ≤0,01 | ≤0,01 | / | 0,20-0,30 | ≤0,02 | < 0,09 |
PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG
KAPITEL Ⅰ (JIS-STANDARD)
Größe | D O (eins) | D 3 (um) | D 50 (eins) | D94(um) |
#240 | ≤127 | ≤103 | 57,0 ± 3,0 | ≥40 |
#280 | ≤112 | ≤87 | 48,0 ± 3,0 | ≥33 |
#320 | ≤98 | ≤74 | 40,0 ± 2,5 | ≥27 |
#360 | ≤86 | ≤66 | 35,0 ± 2,0 | ≥23 |
#400 | ≤75 | ≤58 | 30,0 ± 2,0 | ≥20 |
#500 | ≤63 | ≤50 | 25,0 ± 2,0 | ≥16 |
#600 | ≤53 | ≤41 | 20,0 ± 1,5 | ≥13 |
#700 | ≤45 | ≤37 | 17,0 ± 1,5 | ≥11 |
#800 | ≤38 | ≤31 | 14,0 ± 1,0 | ≥9,0 |
#1000 | ≤32 | ≤27 | 11,5 ± 1,0 | ≥7,0 |
#1200 | ≤27 | ≤23 | 9,5 ± 0,8 | ≥5,5 |
#1500 | ≤23 | ≤20 | 8,0 ± 0,6 | ≥4,5 |
#2000 | ≤19 | ≤17 | 6,7 ± 0,6 | ≥4,0 |
#2500 | ≤16 | ≤14 | 5,5 ± 0,5 | ≥3,0 |
#3000 | ≤13 | ≤11 | 4,0 ± 0,5 | ≥2,0 |
#4000 | ≤11 | ≤8,0 | 3,0 ± 0,4 | ≥1,8 |
#6000 | ≤8,0 | ≤5,0 | 2,0 ± 0,4 | ≥0,8 |
#8000 | ≤6,0 | ≤3,5 | 1,2 ± 0,3 | ≥0,6 |
KAPITEL II (FEPA-STANDARD)
Größe | D 3 (um) | D 50 (eins) | D94(um) |
F230 | <82 | 53,0 ± 3,0 | >34 |
F240 | <70 | 44,5 ± 2,0 | >28 |
F280 | <59 | 36,5 ± 1,5 | >22 |
F320 | <49 | 29,2 ± 1,5 | >16,5 |
F360 | <40 | 22,8 ± 1,5 | >12 |
F400 | <32 | 17,3 ± 1,0 | >8 |
F500 | <25 | 12,8 ± 1,0 | >5 |
F600 | <19 | 9,3 ± 1,0 | >3 |
F800 | <14 | 6,5 ± 1,0 | >2 |
F1000 | <10 | 4,5 ± 0,8 | >1 |
F1200 | <7 | 3,0 ± 0,5 | >1 (bei 80 %) |
F1500 | <5 | 2,0 ± 0,4 | >0,8 (bei 80 %) |
F2000 | <3,5 | 1,2 ± 0,3 | >0,5 (bei 80 %) |
Hauptsächliche Anwendungen
-Gebundene Schleifmittel und beschichtete Schleifmittel
-Erzeugen einer matten Oberfläche auf Glas
– Nass- und Trockenstrahlmittel, Schleifen und Polieren usw.
-Boden-/Wandlaminate, verschleißfest
-Thermisches Spritzen/Plasmaspritzen, Verarbeitung sehr harter Komponenten
-Katalysatorträger
-Keramik und Fliesen, Keramikfilterplatte, Keramikmembran usw.
-Schleifscheiben, Topfscheiben, Schleifsteine, Polierpads usw.
-Strahlreinigung, Oberflächenbearbeitung, Entgraten, Aufrauen metallischer Oberflächen