Zirkonoxid-Schleifsand aus geschmolzenem Aluminiumoxid für die Grabsteingravur auf dem US-amerikanischen und kanadischen Markt
Zirkonoxid-Schleifsand (ZA) , insbesondere die Sorte mit 25 % Zirkonoxidanteil, ist ein Hochleistungs-Elektroschmelz-Schleifmittel, das speziell für die präzise Gravur von Denkmälern und die Oberflächenbearbeitung von Stein entwickelt wurde. Hergestellt durch Hochtemperatur-Elektroschmelzen und strenge Kornklassierung, zeichnet sich dieses Zirkonoxid-Schleifmittel durch eine kompakte Kristallstruktur, ausgezeichnete Zähigkeit, überlegene Härte und hervorragende Selbstschärfungseigenschaften aus. Im Vergleich zu herkömmlichem braunem Schmelz-Schleifmittel und gängigen Schleifmitteln bietet ZA eine höhere Schlagfestigkeit und eine geringere Bruchrate beim Hochdruckstrahlen. Dadurch ist es das ideale Schleifmittel für die hochwertige Bearbeitung von Grabsteinen und Denkmälern.
Dieses Schleifmittel, das vorwiegend für die Gravur von Denkmälern und Granit verwendet wird, findet breite Anwendung beim tiefen Schnitzen von Mustern und Buchstaben, beim Mattieren von Oberflächen, beim Entfernen von Rost und beim Erzeugen einer gleichmäßigen Oberflächenstruktur auf Granit, Marmor und anderen Natursteinen. Seine gleichmäßige Partikelgrößenverteilung gewährleistet klare Gravurlinien, eine feine Oberflächenstruktur und verhindert Ausbrüche an Kanten oder Kratzer auf den Steinprodukten. Es löst effektiv die typischen Probleme ungleichmäßigen Strahlens, des leichten Partikelbruchs und der rauen Steinoberfläche, die durch herkömmliche Schleifmittel verursacht werden, und verbessert so die Qualität hochwertiger Grabsteine erheblich.
Unser Zirkonoxid-Schmelztonerde-Schleifmittel wurde speziell für den US-amerikanischen und kanadischen Markt der Steinbearbeitung entwickelt und erfüllt alle lokalen Industrie- und Umweltschutzstandards. Es ist frei von freiem Siliziumdioxid, erzeugt weniger Staub beim Betrieb und eignet sich für den langfristigen Dauereinsatz beim Sandstrahlen in großen Steinwerken und Gravurwerkstätten. In der nordamerikanischen Denkmalpflege, wo höchste Präzision und gleichbleibende Oberflächenqualität unerlässlich sind, hat sich ZA-Schleifmittel aufgrund seiner langen Lebensdauer und gleichbleibenden Leistung zunehmend als Alternative zu herkömmlichen Schleifmitteln etabliert.
Wir bieten stabile, standardisierte Partikelgrößen und individuell anpassbare Spezifikationen, um den vielfältigen Anforderungen an Gravur und Oberflächenbehandlung auf dem US-amerikanischen und kanadischen Markt gerecht zu werden. Dank zuverlässiger Qualität, wettbewerbsfähiger Preise und etablierter Exportkapazitäten hat sich unser Zirkonoxid-Schleifmittel aus Aluminiumoxid zu einer bewährten Wahl für lokale Denkmalhersteller und Steinverarbeitungsbetriebe entwickelt.
TYPISCHE CHEMISCHE ANALYSE [%]
| Artikel | Al2O3 | ZrO2 | TiO2 | Fe2O3 | SiO2 |
| ZA25 | 68-72 | 24-30 | ≤1,5 | ≤0,5 | ≤1,0 |
| ZA40 | 55-57 | 35-44 | ≤1,5 | ≤0,5 | ≤1,0 |
PHYSIKALISCHE EIGENSCHAFTEN
| Kristallform | Monoklines, tetragonales System |
| Reaktion mit Säuren und Basen | NEIN |
| Reaktion mit Kohlenstoff | Karbidbildung seit 1650 °C |
| Farbe | Grau |
| Wahre Dichte | 4,20 g/cm³ |
| Schüttdichte | 2,18 g/cm³ |
| Mohs-Härte | 9.0 |
| Knoop-Härte | 1450-2000 kg/cm² |
| Schmelzpunkt | 1900C |
| Maximale Betriebstemperatur | 1700 °C |
| Spezifische Wärmekapazität (cal/g°C) | 0,2205 (50-500 °C) |
| Wärmeleitfähigkeit | 0,2718 cal/cm²·sec·C |
| Lineare Ausdehnung (X10-6) | 6,82 (100-700 °C) |
PARTIKELGRÖSSENVERTEILUNG
| F4 | +8000 µm | 0 | +5600 µm | ≤20% | +4750 µm | ≥40% | +4750+4000µm | ≥70% | -3350µm | ≤3% |
| F5 | +6700 µm | 0 | +4750 µm | ≤20% | +4000 µm | ≥40% | +4000+3350µm | ≥70% | -2800µm | ≤3% |
| F6 | +5600 µm | 0 | +4000 µm | ≤20% | +3350 µm | ≥40% | +3350+2800um | ≥70% | -2360 µm | ≤3% |
| F7 | +4750 µm | 0 | +3350 µm | ≤20% | +2800µm | ≥40% | +2800+2360µm | ≥70% | -2000µm | ≤3% |
| F8 | +4000 µm | 0 | +2800µm | ≤20% | +2360 µm | ≥45% | +2360+2000um | ≥70% | -1700µm | ≤3% |
| F10 | +3350 µm | 0 | +2360 µm | ≤20% | +2000 µm | ≥45% | +2000+1700µm | ≥70% | -1400um | ≤3% |
| F12 | +2800µm | 0 | +2000 µm | ≤20% | +1700µm | ≥45% | +1700+1400um | ≥70% | -1180µm | ≤3% |
| F14 | +2360 µm | 0 | +1700µm | ≤20% | +1400um | ≥45% | +1400+1180µm | ≥70% | -1000µm | ≤3% |
| F16 | +2000 µm | 0 | +1400um | ≤20% | +1180µm | ≥45% | +1180+1000µm | ≥70% | -850 µm | ≤3% |
| F20 | +1700µm | 0 | +1180µm | ≤20% | +1000 µm | ≥45% | +1000+850µm | ≥70% | -710µm | ≤3% |
| F22 | +1400um | 0 | +1000 µm | ≤20% | +850 µm | ≥45% | +850+710µm | ≥70% | -600 µm | ≤3% |
| F24 | +1180µm | 0 | +850 µm | ≤25% | +710µm | ≥45% | +710+600µm | ≥65% | -500µm | ≤3% |
| F30 | +1000 µm | 0 | +710µm | ≤25% | +600 µm | ≥45% | +600+500µm | ≥65% | -425µm | ≤3% |
| F36 | +850 µm | 0 | +600 µm | ≤25% | +500 µm | ≥45% | +500+425µm | ≥65% | -355µm | ≤3% |
| F46 | +600 µm | 0 | +425µm | ≤30% | +355 µm | ≥40% | 355+300µm | ≥65% | -250 µm | ≤3% |
| F54 | +500 µm | 0 | +355 µm | ≤30% | +300 µm | ≥40% | +300+250µm | ≥65% | -212µm | ≤3% |
| F60 | +425µm | 0 | +300 µm | ≤30% | +250 µm | ≥40% | 250+212µm | ≥65% | -180 µm | ≤3% |
| F70 | +355 µm | 0 | +250 µm | ≤25% | +212 µm | ≥40% | +212+180µm | ≥65% | -150 µm | ≤3% |
| F80 | +300 µm | 0 | +212 µm | ≤25% | +180 µm | ≥40% | +180+150µm | ≥65% | -125µm | ≤3% |
| F90 | +250 µm | 0 | +180 µm | ≤20% | +150 µm | ≥40% | +150+125µm | ≥65% | -106µm | ≤3% |
| F100 | +212 µm | 0 | +150 µm | ≤20% | +125µm | ≥40% | +125+106µm | ≥65% | -75µm | ≤3% |
| F120 | +180 µm | 0 | +125µm | ≤20% | ≥40% | ≥40% | +106+90µm | ≥65% | -63µm | ≤3% |
| F150 | +150 µm | 0 | +106µm | ≤15% | +75 µm | ≥40% | +75+63um | ≥65% | -45µm | ≤3% |
| F180 | +125µm | 0 | +90µm | ≤15% | +75 µm | * | +75+63um | ≥40% | -53µm | * |
| F220 | +106µm | 0 | +75 µm | ≤15% | +63 µm | * | +63+53um | ≥40% | -45µm | * |
